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| 電子郵件: pvd@sinoarc.com


pvd電弧深黑技術

電弧法一般無法實現(xiàn)深黑色的鍍層,只能鍍到深灰。采用電弧深黑技術可以實現(xiàn)深黑電弧鍍層。

  • 適于低成本鍍制深黑色膜層
  • 在五金衛(wèi)浴門鎖領域有著廣闊的應用前景

pvd離子過濾

電弧法的離子顆粒較大,采用離子過濾技術可以大幅改善膜層質(zhì)量。

  • 濾除大顆粒和原子團
  • 實現(xiàn)鏡面膜

pvd比例給氣自動流量控制器

比例給氣自動流量控制器的PVD設備會讓生產(chǎn)更加得心應手。

  • 預定加減氣體函數(shù)。
  • 實現(xiàn)漸進給氣

pvd數(shù)控節(jié)流閥

節(jié)流閥采用微電腦控制的步進電機,主要有如下優(yōu)點:

  • 節(jié)流閥在0~90度任意可調(diào)
  • 控制角度精確,工藝穩(wěn)定
  • 數(shù)據(jù)設置操作簡單

 

玻璃幕墻鍍膜機

包括:水平雙端流水線式;水平單端流水線式;立式單/雙端流水線式

墻幕玻璃磁控濺射鍍膜機,采用平面磁控濺射靶,可以在大平板浮法玻璃上鍍制金屬單質(zhì)膜、復合膜、 L E輻射膜,也可在小彎的弧形玻璃上鍍膜。
最大可鍍玻璃尺寸:2440×3300(毫米)
多真空室,多濺射室結構,可供用戶選擇,真空室之間有真空鎖隔離。
臥式磁控生產(chǎn)線有單端、雙端形式,玻璃從清洗、鍍膜、檢測等一次完成。
生產(chǎn)線采用PLC全過程控制,并配有彩色顯示屏,顯示鍍膜工藝過程參數(shù)。

墻幕玻璃磁控濺射鍍膜設備主要技術參數(shù)
可鍍玻璃最大尺寸(mm) 2440X3300
生產(chǎn)節(jié)拍(分鐘/片) 3
極限壓力(Pa) 2X10-3
靶數(shù)量(個) 3
濺射功率(KW) 100X3
裝機功率(KW) 420
真空室數(shù)量(個) 9
其中濺射室數(shù)量(個) 3
控制方式 PLC

pvdπ形轉(zhuǎn)靶

 

  • 節(jié)省鍍膜時間
  • 實現(xiàn)定向鍍膜

pvd石墨弧靶

 

  • 解決石墨靶鉆弧滅弧問題
  • 可以鍍制電弧法DLC

pvd線形離子源

 

  • 氣體離化
  • 工件刻蝕輔助清洗

pvd離子滲透

 

  • 聯(lián)合ARC沉積基礎
  • 模具性能壽命顯著倍增

pvd大功率偏壓電源

 

  • 自動生成閥值,無需經(jīng)常調(diào)節(jié)
  • 函數(shù)波形輸出,起弧可能減至最小
  • 數(shù)字邏輯控制,準確無誤
  • 調(diào)制電壓的主弧轟擊,功力強勁

pvd引孤系統(tǒng)改造

 

  • 自動引弧
  • 快速續(xù)弧
  • 不粘弧
  • 相鄰弧源互相幫助

 


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