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一項(xiàng)表面處理的革命

 

 

pvd process

人類在追求完美的過程中不斷發(fā)展,這也成為產(chǎn)品進(jìn)步的動力。產(chǎn)品的完善首先體現(xiàn)在外表上,表面處理不僅可以改變產(chǎn)品的外觀和顏色,還可以提高其品質(zhì),成為工業(yè)生產(chǎn)不可缺少的技術(shù)。表面處理有噴漆,電鍍等傳統(tǒng)方式,這些方法所制作的

涂層附著力差,生產(chǎn)過程有污染。新興的表面處理技術(shù)——離子鍍膜技術(shù)彌補(bǔ)了傳統(tǒng)技術(shù)的缺陷,涂層質(zhì)量高,生產(chǎn)過程無污染,又因?yàn)樗圃斓哪蛹染哂辛己玫难b飾性又具有優(yōu)異的機(jī)械性能,成為日用品和工業(yè)品廣泛采用的表面處理技術(shù),具有廣闊的應(yīng)用前景。

離子鍍膜技術(shù)是一種在真空中進(jìn)行的物理氣相沉積(PVD),包括電弧鍍膜、空心陰極鍍膜、磁控濺射鍍膜、電子束鍍膜等許多方法,其中多弧鍍膜技術(shù)和中頻濺射技術(shù)被認(rèn)為最具市場價值。多弧鍍膜技術(shù)的基本原理是:在真空室中利用弧光放電的大能量將鍍料離化生成等離子體,通過電場進(jìn)行加速并與反應(yīng)氣體生成金屬陶瓷化合物,最后沉積在工件表面。與其它真空鍍膜方法相比較,電弧鍍膜具有離化率高、膜層豐富、質(zhì)量好、效率高,離化源可以任意角度放置,可制造大型設(shè)備,可在較大范圍內(nèi)控制溫度等優(yōu)點(diǎn),使其成為工業(yè)化生產(chǎn)的首選鍍膜方法。其典型涂層有TiN,TiC,ZrN,TiCN,TiAlN,CrN,Ti,Cr,Ni等,主要用于各種材料的裝飾鍍膜和工具鍍膜。

另一常用技術(shù)是磁控濺射。在磁控濺射鍍膜中,輝光放電形成的離子將靶材濺射出來,沉積在工件上。這一鍍膜的優(yōu)點(diǎn)是涂層細(xì)膩,工件升溫少。缺點(diǎn)是速度慢、離化率低、涂層附著力差、粒子繞射性差、鍍復(fù)雜表面時容易形成色差。主要用于塑料等不耐溫的工件、貴金屬膜層,如金;平面鍍膜,如在平板玻璃表面鍍反射膜和彩膜,工藝過渡層如鍍鎳等。最近幾年,中頻濺射技術(shù)的快速發(fā)展,使得磁控濺射設(shè)備得到了長足進(jìn)步。

北京東方亞科技術(shù)發(fā)展有限公司是生產(chǎn)電弧離子鍍膜和磁控濺射鍍膜設(shè)備的專業(yè)公司,有十幾年的設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。在電源及控制、靶技術(shù)和鍍膜工藝等關(guān)鍵技術(shù)方面擁有自主知識產(chǎn)權(quán)。在PVD工具鍍技術(shù)及設(shè)備研發(fā)方面達(dá)到一流水平,產(chǎn)品為用戶創(chuàng)造了良好的經(jīng)濟(jì)效益 。

 

 

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