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| 電子郵件: pvd@sinoarc.com


pvd電弧深黑技術(shù)

電弧法一般無法實現(xiàn)深黑色的鍍層,只能鍍到深灰。采用電弧深黑技術(shù)可以實現(xiàn)深黑電弧鍍層。

  • 適于低成本鍍制深黑色膜層
  • 在五金衛(wèi)浴門鎖領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景

pvd離子過濾

電弧法的離子顆粒較大,采用離子過濾技術(shù)可以大幅改善膜層質(zhì)量。

  • 濾除大顆粒和原子團
  • 實現(xiàn)鏡面膜

pvd比例給氣自動流量控制器

比例給氣自動流量控制器的PVD設(shè)備會讓生產(chǎn)更加得心應(yīng)手。

  • 預(yù)定加減氣體函數(shù)。
  • 實現(xiàn)漸進給氣

pvd數(shù)控節(jié)流閥

節(jié)流閥采用微電腦控制的步進電機,主要有如下優(yōu)點:

  • 節(jié)流閥在0~90度任意可調(diào)
  • 控制角度精確,工藝穩(wěn)定
  • 數(shù)據(jù)設(shè)置操作簡單

 

多弧加濺射復(fù)合多用鍍膜機

1 SA1315-A8M2型離子鍍膜機是一臺多弧+濺射復(fù)合離子鍍膜設(shè)備 ,可在不銹鋼 、碳鋼 、硬質(zhì)合金、玻璃 、陶瓷等金屬及非金屬材料表面鍍覆 TiN 、ZrN、ZrNC、CrN、TiNC及其它復(fù)合膜層 ,從而提高制品表面的耐磨性能和抗蝕性能 ,并提高產(chǎn)品的高技術(shù)含量。

2 該機為特別開發(fā)的磁控+濺射復(fù)合鍍膜機。

技術(shù)指標

鍍膜室尺寸:Φ800 mm X H1200 mm :Φ1200 mm XH 900 mm :Φ1300 mm X H1500 mm

極限真空度:優(yōu)于<1.3×10-3pa(冷態(tài)包括轉(zhuǎn)架)

排空時間:從大氣抽至6.6 x 10-3 Pa時間〈 20min

等離子體加速器離化源數(shù):8個

距形濺射靶2個

采用最新開發(fā)的五極離化源:確保顆粒細膩;幅射均勻;高真空穩(wěn)弧

  • 內(nèi)置加速電場

  • 恒定高斯的水平磁場

  • 直接水冷(或間接水冷)

  • 自動引弧

  • 快速續(xù)弧

  • 采用自穩(wěn)弧電源

偏壓電源:20 KVA。采用我公司獨有的專用大功率偏壓電源和濺射靶專用電源 ,具有特殊保護電路和快速滅弧裝置。

  • 20KW配8弧設(shè)備使用,每弧分配功率高達3KW。裝滿爐,開全靶,1 KV 齊轟輕松自如

  • 特定函數(shù)波形輸出,徹底消除危害性弧光

  • 數(shù)字邏輯控制,準確無誤

  • 調(diào)制電壓的主弧轟擊,場能強大

  • 輔助的快速恢復(fù)功能,減少活化時間

工件架轉(zhuǎn)速

  • 變頻調(diào)速,無級漸變,緩起緩?fù)?可換向

  • 負重200KG

供氣系統(tǒng):兩路

  • 自動跟隨真空室壓強,自動調(diào)節(jié)進氣量

  • 每路氣均有質(zhì)量流量顯示

  • 無需混氣罐,調(diào)節(jié)無滯后

  • 預(yù)設(shè)比例,總量自動或手動均可

  • 預(yù)設(shè)強置換功能,生成起步氣沖

加熱器輸出功率0-18KW

壓強控制:節(jié)流閥;自動壓強調(diào)節(jié)

設(shè)備總功率:110KVA,380V,三相四線制

溫度測量方式:熱電偶

設(shè)備總功率:110KVA max,380伏、三相四線制

設(shè)備總重:3.5t

設(shè)備占地面積:5m X 8m

冷卻水流量:8t/hr(進水溫度25攝氏度以下,壓力2KG/CM 2)

pvdπ形轉(zhuǎn)靶

 

  • 節(jié)省鍍膜時間
  • 實現(xiàn)定向鍍膜

pvd石墨弧靶

 

  • 解決石墨靶鉆弧滅弧問題
  • 可以鍍制電弧法DLC

pvd線形離子源

 

  • 氣體離化
  • 工件刻蝕輔助清洗

pvd離子滲透

 

  • 聯(lián)合ARC沉積基礎(chǔ)
  • 模具性能壽命顯著倍增

pvd大功率偏壓電源

 

  • 自動生成閥值,無需經(jīng)常調(diào)節(jié)
  • 函數(shù)波形輸出,起弧可能減至最小
  • 數(shù)字邏輯控制,準確無誤
  • 調(diào)制電壓的主弧轟擊,功力強勁

pvd引孤系統(tǒng)改造

 

  • 自動引弧
  • 快速續(xù)弧
  • 不粘弧
  • 相鄰弧源互相幫助

 


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