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pvd電弧深黑技術(shù)

電弧法一般無(wú)法實(shí)現(xiàn)深黑色的鍍層,只能鍍到深灰。采用電弧深黑技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)深黑電弧鍍層。

  • 適于低成本鍍制深黑色膜層
  • 在五金衛(wèi)浴門鎖領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景

pvd離子過(guò)濾

電弧法的離子顆粒較大,采用離子過(guò)濾技術(shù)可以大幅改善膜層質(zhì)量。

  • 濾除大顆粒和原子團(tuán)
  • 實(shí)現(xiàn)鏡面膜

pvd比例給氣自動(dòng)流量控制器

比例給氣自動(dòng)流量控制器的PVD設(shè)備會(huì)讓生產(chǎn)更加得心應(yīng)手。

  • 預(yù)定加減氣體函數(shù)。
  • 實(shí)現(xiàn)漸進(jìn)給氣

pvd數(shù)控節(jié)流閥

節(jié)流閥采用微電腦控制的步進(jìn)電機(jī),主要有如下優(yōu)點(diǎn):

  • 節(jié)流閥在0~90度任意可調(diào)
  • 控制角度精確,工藝穩(wěn)定
  • 數(shù)據(jù)設(shè)置操作簡(jiǎn)單

 

裝飾鍍通用鍍膜機(jī)

用途及使用范圍

1. SA1315-A14 -DN 型離子鍍膜機(jī)是一臺(tái)多弧離子鍍膜設(shè)備,應(yīng)用多弧鍍膜新工藝,可在不銹鋼、碳鋼、高速鋼、硬質(zhì)合金、鋅鋁合金、電鍍件、玻璃、陶瓷等金屬及非金屬材料表面鍍覆TiN、ZrN、ZrNC、CrN、TiNC及其它復(fù)合膜層,提高制品表面耐磨、抗蝕性能, 并提高裝飾性。

2. 該機(jī)在設(shè)計(jì)時(shí)為保證鍍鋯工藝的特殊需要,對(duì)普通多弧設(shè)備進(jìn)行了硬件和軟件兩方面的特殊改進(jìn),使該機(jī)成為目前國(guó)內(nèi)可大批量鍍鋯的最佳離子鍍膜機(jī),并常年為美國(guó)某著名廠家加工衛(wèi)浴五金。該機(jī)特別適用于衛(wèi)浴五金和門鎖五金產(chǎn)品的鍍鋯加工。

技術(shù)指標(biāo)

鍍膜室尺寸:

Φ 1200mm × H900mm : Φ 1200mm × H1200mm :

Φ1200mm ×H1500mm : Φ 1300mm × H1600mm

Φ 1200mm ×H1500mm : Φ 1800mm ×H2000mm

極限真空度:優(yōu)于<1.3×10-3pa(冷態(tài)包括轉(zhuǎn)架)

工作壓強(qiáng) 6.6×10- 3pa

二次恢復(fù)時(shí)間 <20 min

漏率 0.67Pa/h

離化源數(shù): 14個(gè)

偏壓電源: 1臺(tái)

工件架轉(zhuǎn)速: 變頻調(diào)速

供氣系統(tǒng):4路

烘烤加熱器輸出功率:36KVA max, 3相 380V

設(shè)備總功率:110KVA max,380伏、三相四線制

溫度測(cè)量方式:熱電偶

設(shè)備總重:5t

設(shè)備占地面積:50平米

冷卻水流量:2.5t/hr(進(jìn)水溫度25攝氏度以下,壓力2KG/CM 2)

pvdπ形轉(zhuǎn)靶

 

  • 節(jié)省鍍膜時(shí)間
  • 實(shí)現(xiàn)定向鍍膜

pvd石墨弧靶

 

  • 解決石墨靶鉆弧滅弧問(wèn)題
  • 可以鍍制電弧法DLC

pvd線形離子源

 

  • 氣體離化
  • 工件刻蝕輔助清洗

pvd離子滲透

 

  • 聯(lián)合ARC沉積基礎(chǔ)
  • 模具性能壽命顯著倍增

pvd大功率偏壓電源

 

  • 自動(dòng)生成閥值,無(wú)需經(jīng)常調(diào)節(jié)
  • 函數(shù)波形輸出,起弧可能減至最小
  • 數(shù)字邏輯控制,準(zhǔn)確無(wú)誤
  • 調(diào)制電壓的主弧轟擊,功力強(qiáng)勁

pvd引孤系統(tǒng)改造

 

  • 自動(dòng)引弧
  • 快速續(xù)弧
  • 不粘弧
  • 相鄰弧源互相幫助

 


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