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| 電子郵件: pvd@sinoarc.com


pvd電弧深黑技術(shù)

電弧法一般無法實現(xiàn)深黑色的鍍層,只能鍍到深灰。采用電弧深黑技術(shù)可以實現(xiàn)深黑電弧鍍層。

  • 適于低成本鍍制深黑色膜層
  • 在五金衛(wèi)浴門鎖領(lǐng)域有著廣闊的應用前景

pvd離子過濾

電弧法的離子顆粒較大,采用離子過濾技術(shù)可以大幅改善膜層質(zhì)量。

  • 濾除大顆粒和原子團
  • 實現(xiàn)鏡面膜

pvd比例給氣自動流量控制器

比例給氣自動流量控制器的PVD設(shè)備會讓生產(chǎn)更加得心應手。

  • 預定加減氣體函數(shù)。
  • 實現(xiàn)漸進給氣

pvd數(shù)控節(jié)流閥

節(jié)流閥采用微電腦控制的步進電機,主要有如下優(yōu)點:

  • 節(jié)流閥在0~90度任意可調(diào)
  • 控制角度精確,工藝穩(wěn)定
  • 數(shù)據(jù)設(shè)置操作簡單

 

黑色高爾夫球頭專用鍍膜機

用途及使用范圍

SA1812-M16-DP型離子鍍膜機是一臺中頻濺射鍍膜設(shè)備,應用中頻鍍膜新工藝,可在不銹鋼、碳鋼、高速鋼、硬質(zhì)合金、鋅鋁合金、電鍍件、玻璃、陶瓷等金屬及非金屬材料表面鍍覆TiN、ZrN、ZrNC、CrN、TiNC及其它復合膜層,提高制品表面耐磨、抗蝕性能, 并提高裝飾性。

該機在設(shè)計時為保證鍍黑工藝的特殊需要,對普通中頻設(shè)備進行了硬件和軟件兩方面的特殊改進,使該機特別適用于鍍黑色膜層。

技術(shù)指標

1 鍍膜室尺寸:Φ 1800mm × H1200mm 、 Φ 1500mm × H1200mm

2 極限真空度:優(yōu)于<1.3×10-3pa(冷態(tài)包括轉(zhuǎn)架)

3 工作壓強: 6.6×10- 3pa

4 二次恢復時間: <20 min

5 漏率: 0.50Pa/h

6 靶位: 16 個

7離子源: 1個

8 電源:40KVA

9 工件架轉(zhuǎn)速可調(diào)

10 供氣系統(tǒng)4路

11 烘烤加熱器輸出功率:36KVA max, 3相 380V

12 設(shè)備總功率:110KVA max,380伏、三相四線制;

13 溫度測量方式:熱電偶

14 設(shè)備總重: 8噸

15 設(shè)備占地面積:50平米

16 冷卻水流量:20噸 / hr(進水溫度25攝氏度以下,壓力2KG/CM 2)

pvdπ形轉(zhuǎn)靶

 

  • 節(jié)省鍍膜時間
  • 實現(xiàn)定向鍍膜

pvd石墨弧靶

 

  • 解決石墨靶鉆弧滅弧問題
  • 可以鍍制電弧法DLC

pvd線形離子源

 

  • 氣體離化
  • 工件刻蝕輔助清洗

pvd離子滲透

 

  • 聯(lián)合ARC沉積基礎(chǔ)
  • 模具性能壽命顯著倍增

pvd大功率偏壓電源

 

  • 自動生成閥值,無需經(jīng)常調(diào)節(jié)
  • 函數(shù)波形輸出,起弧可能減至最小
  • 數(shù)字邏輯控制,準確無誤
  • 調(diào)制電壓的主弧轟擊,功力強勁

pvd引孤系統(tǒng)改造

 

  • 自動引弧
  • 快速續(xù)弧
  • 不粘弧
  • 相鄰弧源互相幫助

 


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